华海清科 2013 年成立，总部天津，科创板上市企业，国内 CMP 抛光装备龙头厂商，国家级专精特新 “小巨人” 企业。公司专注半导体高端装备研发制造，是国内首家实现 12 英寸 CMP 抛光设备产业化并大规模进入国内头部晶圆产线的本土企业，搭建天津研发与生产基地，拥有全套设备自研、装配、工艺验证能力，核心专利覆盖抛光设备机械结构、压力控制系统、在线检测、工艺算法等领域，产品批量供应中芯国际、长江存储、长鑫存储等国内主流 12 英寸晶圆制造企业。

公司核心产品为 CMP 抛光设备，是晶圆制造实现纳米级全局平坦化的核心设备，设备可完成氧化层、金属层、多晶硅等各类膜层抛光工艺，适配逻辑芯片、3D NAND、DRAM 存储芯片、第三代半导体、先进封装、MEMS 等场景。除 CMP 主机设备之外，同步配套供应 CMP 抛光垫、设备易损件等耗材，提供设备维保、工艺开发、晶圆再生加工服务。依托多年设备工艺沉淀，可为客户提供抛光工艺联合开发、设备参数调优、耗材配套选型一体化方案。产品线同时覆盖减薄机、离子注入机、湿法清洗设备等半导体装备，逐步拓展平台化半导体装备业务。

华海清科可为晶圆制造、先进封装、功率半导体企业提供 CMP 设备选型、工艺联合开发、设备安装调试、量产维保、耗材配套全周期服务，派驻工艺工程师驻厂配合抛光工艺开发，帮助客户完成产线良率优化。品牌持续迭代新一代 CMP 抛光装备，不断提升设备去除速率稳定性、晶圆缺陷管控能力，面向国内芯片制造企业提供半导体抛光设备与配套技术服务，推动集成电路前道核心装备国产化，助力国内半导体制造产业链自主可控。