JSR 捷思尔 1957 年在日本东京成立，前身为日本合成橡胶株式会社，东京证券交易所上市企业，是全球顶尖的综合精细化学与半导体材料厂商。企业深耕高分子化学领域数十年，业务布局电子材料、生命科学、功能塑料三大板块，半导体材料是核心业务板块之一，在全球多地设立研发中心与生产基地，中国上海建有技术研发中心，专门面向国内晶圆厂提供材料评测、工艺验证等本地化技术支持。JSR 是全球半导体前道关键材料核心供应商，产品覆盖从成熟制程到先进制程全节点，凭借稳定的材料性能、低缺陷控制能力，长期供应全球头部晶圆制造企业，在光刻胶、CMP 抛光材料领域拥有全球领先的市场份额。

JSR 的 CMP 抛光液是芯片晶圆平坦化工艺核心耗材，产品线覆盖氧化物、钨、铜等不同工艺场景，适配逻辑芯片、存储芯片先进制程需求，配套 CMP 后清洗液产品，用于去除抛光后晶圆表面的颗粒、金属离子与有机残留。抛光液采用自研纳米磨粒配方，精准控制研磨速率、研磨选择比，有效降低晶圆表面划痕、凹陷等缺陷，保障多层金属布线的平整度，满足 7nm 及以下先进制程严苛工艺要求。除 CMP 材料外，JSR 半导体材料还包含 g/i 线、KrF、ArF 浸没式光刻胶、多层硬掩模、厚膜光刻胶、感光绝缘膜等，覆盖晶圆前道光刻、平坦化以及先进封装全流程，可为芯片制造企业提供一站式半导体材料方案。

JSR 可为晶圆制造、半导体封测企业提供材料选型、工艺测试、样品验证、量产交付与长期工艺技术支持，依托上海本地技术中心，可快速开展抛光工艺匹配、缺陷分析、配方调试，缩短客户新材料导入周期。品牌持续迭代 CMP 抛光液、光刻胶等先进半导体材料，不断优化纳米粉体配方、化学体系，面向国内外晶圆厂、存储芯片厂商，提供 CMP 抛光液、光刻胶等半导体关键耗材，助力先进制程芯片制造工艺稳定落地，支撑集成电路产业的发展。